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據報道,德國矽基氮化镓專(zhuan) 家ALLOSSemiconductors宣布與(yu) 沙特阿卜都拉國王科技大學(KAUST)研究團隊達成合作,雙方將共同研發高效矽基InGaN紅色MicroLED。據了解,大晶格失配(latticemismatch)和量子限製斯塔克效應(quantum-confinedStarkeffect,QCSE)等問題限製了紅色氮基LED在實際工業(ye) 應用中的使用,而ALLOS與(yu) KAUST本次合作將致力於(yu) 解決(jue) 這些基本問題。
圖片來源:KAUST
值得注意的是,在MicroLED顯示領域,除了藍色和綠色LED之外,MicroLED顯示還對在大尺寸晶圓上生長紅色LED有強勁的需求,目的在於(yu) 降低製造複雜性和成本。
據悉,KAUST團隊此前通過采用局部應變補償(chang) (LocalStrainCompensation)和改良後的MOCVD反應器設計,在開發正向電壓(ForwardVoltage)低於(yu) 2.5V且高效的InGaN基紅色MicroLED方麵獲得了一些突破。他們(men) 已在藍寶石襯底和Ga2O3(氧化镓)襯底上生長出紅色LED。
為(wei) 了采用晶圓級(尤其是大尺寸晶圓)工程應變技術來開發潛在高性能紅色LED,KAUST團隊與(yu) ALLOS共同將研究工作延伸到矽襯底上。憑借能夠將晶圓片擴展到300mm以及在矽襯底產(chan) 線上加工的能力,雙方的合作將加快量產(chan) 進程。對於(yu) MicroLED顯示器,特別是用於(yu) AR設備的單片集成MicroLED顯示器而言,這將是另一個(ge) 重要的助攻。
KAUST團隊與(yu) ALLOS將充分利用各自的專(zhuan) 業(ye) 知識來處理應變問題,優(you) 化矽基氮化镓和紅色LED的晶體(ti) 生長條件,進而實現在矽基氮化镓緩衝(chong) 層上生長紅色LED堆棧(Stack)。